INVESTIGADORES
RUANO SANDOVAL Gustavo Daniel
artículos
Título:
Crecimiento de películas ultra delgadas de aisladores sobre una superficie metálica: AlF3 sobre Cu(100)
Autor/es:
J. C. MORENO-LOPEZ; G. RUANO; R. A. VIDAL; M. C. G. PASSEGGI JR.; J FERRÓN
Revista:
Anales AFA
Editorial:
Asociación Física Argentina
Referencias:
Año: 2010
ISSN:
0327-358X
Resumen:
En este trabajo caracterizamos el crecimiento de películas de fluoruro de aluminio (AlF3) sobre Cu(100) mediante la técnica de microscopia túnel de barrido (STM). Las imágenes túnel muestran que a medida que van creciendo en tamaño las islas de fluoruro de aluminio, éstas experimentan una transición en su forma a bajos recubrimientos, de compacta a fractal (ramificada). Las islas de forma ramificada crecen lateralmente formando una película bidimensional hasta un recubrimiento de 0.80 monocapas. A mayores recubrimientos el crecimiento del tipo 2D cambia a 3D. Para obtener las imágenes túnel fue necesario utilizar altos voltajes (V≥2.50 V) lo cual muestra el carácter aislador de las islas de fluoruro de aluminio.