INVESTIGADORES
SCHMIDT javier Alejandro
congresos y reuniones científicas
Título:
Obtención de películas delgadas de silicio policristalino en reactores de CVD a partir de Clorosilanos
Autor/es:
BENVENUTO, A. G.; BUITRAGO, R. H.; SCHMIDT, J. A.
Lugar:
Rosario, Argentina
Reunión:
Congreso; 94º Reunión Nacional de Física; 2009
Institución organizadora:
Asociación Física Argentina
Resumen:
En este trabajo se presentan resultados obtenidos en la deposición y caracterización estructural de láminas delgadas de silicio policristalino. Como método de deposición se usó el CVD térmico a partir de triclorosilano, y como sustrato un vidrio comercial de alta temperatura. Se logró la deposición de películas policristalinas, con tamaños de grano entre 0,2 y 0,5 micrones, a temperaturas de entre 730 y 840 ºC. Las muestras presentan un crecimiento tipo columnar y una clara orientación cristalina (2 2 0). Estas características serían propicias para el transporte electrónico en la dirección perpendicular al sustrato.
