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En este trabajo hemos realizado un estudio de la deposición de moléculas de etileno, estimulada por el bombardeo con electrones de baja energía, sobre la superficie de un monocristal de Cu(111), utilizando Espectroscopia de electrones Auger (AES) y Espectroscopia de pérdida de energía de electrones (EELS). Estas técnicas nos permitieron determinar la cantidad relativa de carbono depositado sobre la superficie e inferir el tipo de enlaces carbono-carbono que forman los átomos sobre la superficie.La deposición estimulada se realizó en condiciones de ultra alto vacío (UHV), variando tanto la presión del etileno como la temperatura de la superficie del monocristal. La irradiación se realizó con electrones de 350 eV de energía y con una densidad de corriente de ~2 mA/cm2. En todas las mediciones se partió de una muestra de Cu limpiada in situ mediante bombardeo con iones Ar+ y reconstruida por calentamiento a una temperatura de 820 K.Se encontró que a bajas exposiciones la temperatura del sustrato influye poco en la cantidad de carbono depositado. A altas exposiciones de etileno se observa que el incremento de la temperatura del sustrato provoca una menor deposición de carbono. Sin embargo, un análisis de la forma de los espectros Auger finales del CKLL medidos después de cada deposición demuestra que la estructura química de los compuestos de carbono es la misma.Para exposiciones menores a 4000 L la velocidad de deposición de carbono esprácticamente independiente de la presión de etileno y de la temperatura del sustrato. A partir de 4000 L comienza a notarse una dispersión en los valores de la velocidad de deposición.Por otro lado, en los espectros de EELS se observa la existencia del plasmón hibrido (π+σ) que demuestra la existencia de enlaces de tipo sp2 en las estructuras carbonosas formadas sobre la superficie.

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