Daño al ADN fotoinducido por complejos del tipo ReI(CO)3(L)(nHo)+. DNA damage photoinduced by ReI(CO)3(L)(nHo)+ complexes

IVÁN MAISULS; FRANCO M. CABRERIZO; GUSTAVO T. RUIZ; BERND EPE

Tucumán

Encuentro; Tercera Reunión de Fotobiólogos Moleculares Argentinos; 2016

Las ß-carbolinas (ßCs)representan una familia de alcaloides naturales, capaces de participar en unaamplia gama de procesos bioquímicos. Bajo irradiación con luz UVA puedenprovocar daño en el material genético [1]. El desarrollo de complejos metálicoscon ligandos fotoactivos, ofrece la oportunidad de diseñar nuevos compuestosque combinen las propiedades tanto de los ligandos como las del núcleometálico. En este contexto, los complejos tricarbonílicos de Re(I) con ligandospolipiridínicos han demostrado tener una excelente estabilidad térmica yfotoquímica [2]. Recientemente, hemos sintetizado y caracterizado una serie decomplejos de Re(I) con βCs como ligando [3]. Los complejos utilizados en estetrabajo son: [Re(CO)3(L)(nHo)]CF3SO3, donde L= 2,2? bipiridina (bpy), 1,10 fenantrolina (phen) y dipirido[3,2-a:2?.3?-c]fenazina (dppz).En el mismo, se pone en evidencia la capacidadfotosensibilizadora de los complejos mencionados, por medio del ensayo derelajación del material genético PM2 combinando con el tratamiento conendonucleasas de restricción.[4] Durante los ensayos de fotosensibilización seutilizó como fuente de excitación electrónica una lámpara de emisión continuaen la región UVA del espectro electromagnético (λ = 365 ± 20 nm). En todos loscasos se cuantificó el daño fotoinducido por cada complejo medianteelectroforesis en gel y se determinó, además, el perfil o espectro de dañoocasionado. Se determinó la presencia de diferentes lesiones en el materialgenético, entre las que se destacan oxidaciones en las bases púricas del ADN(formación de 8-oxo-dGua, Fapy, etc.), la formación de sitios con pérdida de labase nucleica (o sitios abásicos) y la generación de rupturas de simple (SSBs) ydoble cadena (DSBs). Los resultados obtenidos muestran perfiles diferencialesdependiendo de la naturaleza química de los ligandos que conforman el complejo.Estos resultados son analizados en el contexto de las propiedades fotofísicasparticulares de cada fotosensibilizador, lo cual permite inferir lospotenciales mecanismos a través de los cuales la reacción de daño tiene lugar.