Modelado de propiedades plasmónicas de films delgados mesoporosos de TiO2 y SiO2 infiltrados con nanopartículas (Au,Ag)

V. M. SÁNCHEZ; E. D. MARTINEZ; M. L. MARTINEZ RICCI; G. J. A. A. SOLER ILLIA

La Falda

Otro; XII Encuentro "Superficies y Materiales nanoestructurados"; 2012

En nuestro laboratorio se sintetizan films delgados mesoporosos (FDM) mediante la técnica sol-gel,estos films forman mesoestructuras con tamaño de poro entre 2-10nm [1,2]. Las nanopartículas (NP)metálicas se sintetizan e inmovilizan en la matriz de los FDM. Obteniéndose, como resultado, unmaterial nanocomposito -nanopartículas incluidas en el film delgado mesoporoso (NP@MO2)- conpropiedades plasmónicas dependientes de la cantidad de NP inmersas en el FDM y del tipo de óxidoque constituye la matriz [3].Para caracterizar la respuesta óptica de estos materiales se realizan mediciones de elipsometría y deespectroscopía UV-visible. Las primeras proporcionan la función dieléctrica del material y el espesordel film mientras que las segundas miden la transmisión de luz a través del film. Ambos métodos decaracterización se pueden comparar entre sí y ,a su vez, se pueden modelar de manera independiente.El modelado de las propiedades plasmónicas de las NP@MO2 se realiza en el marco de la teoríaelectromagnética clásica, empleando la aproximación cuasielectrostática, utilizando por un lado laaproximación dipolar discreta (DDA) -modelo implementado en el programa DDscat [4]- y por otro lado,la teoría de medio efectivo [5]. La primera se puede relacionar directamente con la medición deespectroscopía UV-Visible y la segunda con la caracterización realizada mediante elipsometría.En este trabajo se presenta el análisis de Ag@SiO2, Ag@TiO2 y Au@TiO2 a través de la caracterizaciónexperimental y modelado clásico. Los siguientes gráficos representan parte del estudio realizado sobreAu@TiO2.