ESTUDIO DFT DE LA ADSORCION DE Rh E HIDROGENO EN GRAFENO DOPADO CON BORO Y VACANCIAS

AMBRUSI, RUBÉN E.; CARLA R. LUNA; ESTELA PRONSATO; ALFREDO JUAN

Carlos Paz

Congreso; XX Congreso Argentino FISICOQUÍMICA Y QUÍMICA INORGÁNICA; 2017

Asociación Argentina de Investigación Fisicoquimica, Universidad Nacional de Río Cuarto

Una de las aplicaciones del grafeno es el almacenamiento de hidrógeno. Paraello, es habitual su decoración con metales de transición. En ese sentido, defectoscomo vacancias o dopantes, son utilizadas para mejorar la dispersión de estosmetales y por lo tanto la adsorción de H2.En el presente trabajo, la estabilidad de la adsorción de Rh sobre grafeno condefectos se evalúa a través de la teoría del funcional de la densidad (DFT),considerando el dopado con boro (GB), vacancias simples (VS) y dobles conreconstrucción 585 (DV 585) y 555-777 (DV 555-777).La adsorción de H2 sobre los diferentes sistemas, se analiza en términos de laenergía mínima, verificándose en forma cuantitativa la importancia de fuerzas dedispersión. La densidad de estados parcial, junto a un análisis de enlace fueronconsiderados para explicar las interacciones Rh-C, H2-Rh, y H-H y efectos magnéticosantes y después de la adsorción de Rh e H2.La VS y DV 585 permiten obtener una buena dispersión del Rh. Hasta tresmoléculas de H2 pueden ser quimisorbidas sobre el Rh decorando la VS. Lahibridización de los orbitales Rh-4d y Rh-5s con el orbital σ de H2 es el principalmecanismo para la adsorción de H2, pero también existe contribución electrostática yde dispersión.