INVESTIGADORES
PRATTA Guillermo Raul
congresos y reuniones científicas
Título:
Variabilidad genética en el patosistema del Tizón de Tallo y Vaina de soja causada por Phomopsis longicolla a partir de dos métodos de inoculación
Autor/es:
HERNÁDEZ, F.; CABODEVILA, V.G.; CACCHIARELLI, P.; GUILLERMO R. PRATTA; PIOLI, R.N.
Lugar:
Formato virtual
Reunión:
Congreso; XLVIII Congreso Argentina de Genética Modalidad Virtual; 2020
Institución organizadora:
Sociedad Argentina de Genética
Resumen:
*P. longicolla* (Plo) es el principal agente causal del Tizón de Tallo y Vaina (TTV) en soja (*Glycine max*, So). Severidad (Se) mide el nivel de TTV en el cultivo y permite caracterizar respuestas diferenciales en So y Plo. Por ello, es relevante evaluar el método de inoculación (MI) que permita desarrollar y estimar TTV. El objetivo fue validar comportamientos de 4 genotipos de So (Ge) discrepantes para resistencia y 3 aislamientos de Plo (Ai) discrepantes para virulencia en TTV mediante dos MI: Inyección (I) y Herida (H). A partir de estudios previos en los que MI fue solo I, se seleccionaron 2 Ge resistentes (R) a moderadamente R (MR), 2 Ge susceptibles (S) a moderadamente S (MS) y tres Ai de Plo que permiten discriminar entre estos comportamientos. La comparación entre Ge, Ai, MI y sus interacciones se hizo a través de ANOVA factorial para Se. Se encontraron diferencias significativas entre Ge, Ai y su interacción, validando todos los Ge (p<0,0001) su categoría de R-MR (Ge6 y Ge3, Se<30%) y MS-S (Ge5 y Ge4, con Se>30%). Respecto a Ai, se identificó (p=0,0012) a 227-B2 como el más virulento (Se=40%) mientras que B5L16 y CaB mostraron Se cercanas a 30%. MI, MIxGe y MIxAi resultaron no significativas (p=0,65, 0,52 y 0,78, respectivamente). La variabilidad genética en el patosistema TTV fue similarmenteestimada por ambos MI, validando los comportamientos esperados de So, Plo y su interacción en base a estudios previos. Los resultados indican que H parecería presentar cierta ventaja respecto a I para diferenciar Ge de comportamiento intermedio (Ge3, MR y Ge5, MS).