INVESTIGADORES
URTEAGA Raul
congresos y reuniones científicas
Título:
Modelo de llenado capilar en silicio poroso
Autor/es:
LUISA CENCHA; RAÚL URTEAGA; VENTOSINOS F.; CLAUDIO L. A. BERLI; R.R. KOROPECKI
Lugar:
Carlos Paz
Reunión:
Congreso; 97 Reunión de la Asociación Física Argentina; 2012
Institución organizadora:
Asociación Física Argentina
Resumen:
El silicio poroso (SP) en película delgada es un composite de Si y aire que puede obtenerse a partir del anodizado electroquímico de obleas de silicio monocristalino (Si-c) dopadas, en unasolución fluorada. Bajo ciertas condiciones de preparación se genera una red porosa con nanoestructuras remanentes que crecen preferencialmente en la dirección (100), cuyascaracterísticas pueden controlarse en una amplia escala (desde nanómetros hasta micrómetros) con parámetros operacionales apropiados [1]. El proceso de porosificación esautolimitado, lo que permite fabricar multicapas de SP a partir de una misma oblea de Si-c, mediante un perfil de densidades de corrientes que se transforma en un perfil de porosidadesdentro de la oblea. Mediante técnicas interferométricas puede estudiarse el ingreso de un fluido dentro de la estructura porosa debido a las fuerzas capilares con el fin de determinar laevolución de la interfase para distintos tipos de matrices porosas con diferentes combinaciones de estos fluidos.
