Diseño y caracterizacion estructural de una interfaz de AlF3-Cu(100)

J.L. NAVARRO SANCHEZ; E. A. ALBANESI

Tandil (Bs. As.)

Congreso; 99 Reunion Nacional Asociacion Fisica Argentina; 2014

Asociacion Fisica Argentina

El trifluoruro de aluminio es un aislante iónico con potenciales aplicaciones como catalizador en reacciones de intercambio halógeno, el cual adopta una estructura cristalina romboédrica en su fase estable por debajo de los 730 K y conocida como (alfa)-AlF3. Por sus características cristalinas, también es usado como interfaz transparente en aplicaciones fotovoltaicas, y como barrera aislante en contactos e interfases metálicas. En relación a esta última aplicación, realizamos un modelo ab-initio de la interfaz con una supercelda considerando el cristal hexagonal de AlF3 con su eje hexagonal de crecimiento, enfrentado a la dirección 100 del cristal de cobre. Realizamos nuestros cálculos de propiedades electrónicas y estructurales dentro de la formulación de la teoría de la funcional densidad (DFT) con un esquema LAPW, empleando la aproximación GGA para el potencial de intercambio y correlación; de las superficies aisladas de cada componente (alfa)-AlF3 y Cu(100), y de la interfaz. Para la interfaz formada, discutimos la elección de la periodicidad paralela a la interfaz, así como la convergencia en energía de los espesores en la dirección de crecimiento. Comparamos nuestros resultados con los datos experimentales existentes hasta el presente.