Selección de pretratamientos superficiales para la síntesis de recubrimientos anódicos nanoestructurados de Al 1050

VERA, M.L.; ARES, A.E. ; BRUERA, F.; KRAMER, G.

Buenos Aires

Encuentro; 6° Encuentro de Jóvenes Investigadores en Ciencia y Tecnología de Materiales; 2017

Asociación Argentina de Materiales

El creciente interés por los nanomateriales y sus propiedades han llevado al óxido de aluminio nanoporoso a la vanguardia tecnológica, por sus aplicaciones en filtración y separación molecular, catálisis, generación y almacenamiento de energía, electrónica y fotónica, sensores y biosensores, entrega de fármacos y síntesis de templates. La oxidación anódica de aluminio permite obtener de manera versátil y económica recubrimientos nanoestructurados de óxidos. Como la rugosidad superficial del sustrato es determinante en la formación de nanoestructuras anódicas, las diferentes etapas que involucran el pre-tratamiento de aluminio empleado como sustrato tienen una alta incidencia en el desarrollo y ordenamiento de esta capa de óxido anódica. Para la preparación superficial del Al 1050 (99,5% de Al), diversos autores utilizan las siguientes etapas: desbaste con papel de SiC desde #600 a #2500, pulido con alúmina de 0,3 µm, ataque en NaOH 5% p/p a 60 °C, decapado en sol. 1:1 HNO3 y H2O, electropulido en sol. de 25% v/v de C2H5OH 96%, 40% v/v de H3PO4 85% y 25% v/v de H2O y ataque ácido en sol. 6 % p/p de H3PO4, 1.8 % p/p de ácido crómico, 92.2 % p/p de H2O a 60 °C durante 3 h. En el presente trabajo se ha seleccionado una combinación de pretratamientos óptima para sintetizar recubrimientos anódicos nanoestructurados de Al 1050, utilizando como parámetro de selección la rugosidad promedio del sustrato post pre-tratamiento. De acuerdo con los resultados obtenidos, se encontró que el ataque en NaOH y el decapado no mejoraron la calidad de la superficie. Descartando estas etapas, la combinación de los pretratamientos: 1) desbaste, 2) pulido fino, 3) electropulido y 4) ataque ácido, presentaron un cierto grado de sinergismo que reduce significativamente la rugosidad superficial (alcanzándose una rugosidad promedio mínima de 135 nm) lo que permitiría obtener satisfactoriamente películas anódicas nanoporosas.