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Una de las técnicas de ionización utilizadas en la espectrometría de masas consiste en la absorción multifotónica de radiación UV. Dicha técnica consiste en la absorción secuencial de fotones hasta superar la energía de ligadura del electrón de la muestra que se irradia. La fotólisis por radiación UV es utilizada también para la descomposición de moléculas y generación de especies radicales de interés en estudios de reacciones químicas [1]. En el presente trabajo se caracteriza la irradiación de un jet molecular de SiF4 con la cuarta armónica (lambda = 266 nm) de un láser pulsado de Nd:YAG. Esta muestra se analiza con un espectrómetro de masas por tiempo de vuelo (TOF-MS). En el espectro de masas se observan radicales ionizados de tipo SiFn+ pero no se observa el ion padre SiF4+ . La presencia de estos radicales implica que la radiación UV produce una ionización y una fragmentación de la molécula de SiF4. A partir de estudiar la amplitud de pico de los iones como función de la intensidad láser, se propone un modelo de potencias para la sección eficaz de absorción UV / IK, donde el exponente responde al numero de fotones absorbidos. Por último se realizan cálculos de química cuántica para estimar la entalpía de formación de los distintos fragmentos generados con la radiación UV. Estas simulaciones consisten en un conjunto de cálculos ab initio, que se realizaron con el programa Gaussian 09. Para 158 104a Reunión de la Asociación Física Argentina 159 determinar la geometrías de los reactivos y productos se aplica el formalismo B3LYP de la teoría del funcional de la densidad, junto con la base 6-31G(2df,p). Se calcularon las entalpías de activación y de reacción por medio del nivel de teoría G4(MP2) [3]. Los cálculos realizados permiten explicar el patrón de fragmentacion de SiF4 y la alta probabilidad de disociación del ion SiF4+, que no se observa en los espectros de masas.