Disociación multifotónica láser por dos frecuencias para separación isotópica de Silicio

M. RISARO; M. L. AZCÁRATE; J. CODNIA; V. D'ACCURSO

Taller; XII Taller de Óptica y Fotónica (TOPFOT); 2016

En el presente trabajo se presentan los resultados preliminares de enriquecimiento isotópico de Silicio mediante la Disociasión multifotónica Láser (DMFIR) por dos frecuencias. Esta técnica consiste en una primera etapa de excitación de los primeros niveles vibracionales de la molécula de trabajo y una segunda etapa de disociación de la molécula excitada. Se utilizó SiF4 como molécula de trabajo para llevar a cabo la DMFIR por dos frecuencias. La experiencia se realizó en una cámara de alto vacío, con una válvula pulsada para el ingreso de la muestra. El sistema de detección y análisis de la muestra consiste en un espectrómetro de masas por tiempo de vuelo. La DMFIR de dos frecuencias se realizó con dos láseres TEA de CO2. Mientras que para la ionización multifotónica de los fragmentos generados se utilizó la 4ª armónica de un láser de Nd:YAG (266 nm). Se optimizó el sistema variando el tiempo de retardo entre los láseres de excitación y disociación. Finalmente se presentan los resultados de la dependencia del rendimiento de la DMFIR por dos frecuencias, con la fluencia de sendos láseres.