UNIDEF   23986
UNIDAD DE INVESTIGACION Y DESARROLLO ESTRATEGICO PARA LA DEFENSA
Unidad Ejecutora - UE
congresos y reuniones científicas
Título:
Disociación Multifotónica IR de fenilsilano
Autor/es:
J. CODNIA; C. TORO SALAZAR; M. L .AZCÁRATE
Reunión:
Congreso; 100ª Reunión Nacional de la Asociación Física Argentina; 2015
Resumen:
Los estudios de películas de Si para celdas solares y microelectrónica se siguen investigando dado que se están desarrollando nuevas formas de deposición para reemplazar al método químico tradicional, CVD [1]. En este sentido, el aporte al conocimiento de precursores de películas de Si sigue siendo un tema en desarrollo. Se sabe que el fenilsilano es un precursor eficiente para la producción de películas delgadas de Si, y también que la disociación tanto UV como IR de este compuesto ocurre a través de dos canales primarios:C6H9SiH3 → C6H9SiH + H2 (1)C6H9SiH3 → C6H6 + SiH2 (2) Por un lado, O'Neal et al. [2] estudiaron la pirólisis de fenilsilano, y encontraron que el 82% de la reacción ocurría a través del canal (1) mientras que Nájera et al. [3] analizaron la disociación multifotónica IR (DMFIR) del mismo en el intervalo de fluencias del láser entre 0,08 y 0,6 J/cm2 y hallaron que un 94% de la reacción ocurría a través del mismo canal.En este trabajo se estudió la DMFIR de fenilsilano en un jet molecular en el intervalo de fluencias entre 0,16 y 160 J/cm2 realizando la detección de los productos de la disociación en tiempo real por espectrometría de masas de tiempo de vuelo. Para ello se utilizó una facilidad compuesta por una cámara de reacción de alto vacío con aberturas para el ingreso y transmisión de radiación láser, una válvula pulsada como sistema de inyección de muestra y un espectrómetro de masas de tiempo de vuelo como sistema de detección. La DMFIR y la ionización multifotónica se llevaron a cabo con un láser de CO2 TEA y un láser de Nd:YAG, respectivamente. Los retardos entre la inyección de la muestra, los pulsos de disociación e ionización y la adquisición de la señal del detector se controlaron con una unidad de retardo programada por un osciloscopio digital mediante un programa realizado en lenguaje Matlab. Se encontró que en el intervalo de fluencias utilizado la reacción ocurre solamente a través del canal (1) [4]. Se determinó la cinética del radical fenilsilileno evidenciando que dicho radical se descompone produciendo SiH, C2, y butadieno. Referencias1. H. Murayama, T. Ohyama, I. Yoshida, A. Terakawa, T. Masuda, K. Ohdaira, T. Shimoda, ?Photo-stability of a-Si solar cells fabricated by ?Liquid-Si printing method? and treated with catalytic generated atomic hydrogen?, Thin Solid Films 575, 100-102 (2015).2. H.E. O'Neal, M.A. Ring, D. Kim, K.D. King. Primary reaction channels and kinetics of the thermal decomposition of phenylsilane. J. Phys. Chem. 99: 9397-9402 (1995).3 J.J. Nájera, J.O. Cáceres, and S.I. Lane. Gas-phase infrared laser photolysis of phenylsilane. J. Photochem. and Photobiol. A: Chemistry, 131, 1-11 (2000).4. N.D. Gómez, V. D?Accurso, J. Codnia, F.A. Manzano, M L. Azcárate. Direct determination of the dissociation probability in highly focused IR multiple photon dissociation. Appl. Phys. B 106, 921-926 (2012).