UNIDEF   23986
UNIDAD DE INVESTIGACION Y DESARROLLO ESTRATEGICO PARA LA DEFENSA
Unidad Ejecutora - UE
congresos y reuniones científicas
Título:
Influencia del preheat en la fotoconductividad de películas de ZnO nanoestructuradas
Autor/es:
C. BOJORGE; BIANCHETTI, M.F; WALSÖE DE RECA NE
Lugar:
Santa Fe
Reunión:
Congreso; Congreso Internacional de Metalurgia y Materiales SAM - CONAMET/IBEROMAT/MATERIA 2014; 2014
Institución organizadora:
UNL
Resumen:
En aplicaciones tales como recubrimientos antirreflectantes, electrodos transparentes para celdas solares, sensores de gases, varistores y dispositivos electro y fotoluminiscentes, entre otros, se utiliza con frecuencia el óxido de cinc (ZnO) debido a su enorme versatilidad, siendo la fotoconductividad en el ultravioleta (UV) una de sus propiedades más importantes. En este trabajo se crecieron películas nanoestructuradas de ZnO puro por el método de sol-gel, a partir de una solución precursora de acetato de cinc dihidratado en etanol absoluto que fue depositada en sucesivas capas por la técnica de spin-coating, sobre sustratos de SiO2. Las características estructurales de las películas y, consecuentemente sus propiedades dependen, entre otros factores, de las condiciones de secado de las sucesivas capas depositadas y del tratamiento térmico final. Se depositaron películas de 8 capas y para cada una de estas películas se utilizó un modo diferente de secado entre capas, a saber: A) a temperatua ambiente durante 30 min; B) a temperatura ambiente durante 30 min más un secado (preheat) a 200 °C durante 10 min; C) con un preheat a 200 °C durante 10 min. Todas las películas recibieron un tratamiento térmico final a 450 ºC durante 3 horas. Se estudió la conductividad a oscuras y la fotoconductividad en el UV en relación a las variaciones en el proceso de secado. Todas las películas resultaron ser altamente resistivas en oscuridad. Se pudo verificar que la película secada a temperatura ambiente resultó más delgada y más sensible al UV. Además, las películas se caracterizaron por difracción de rayos X (XRD) y microscopía electrónica de barrido por efecto de campo (FESEM).