IFISUR   23398
INSTITUTO DE FISICA DEL SUR
Unidad Ejecutora - UE
congresos y reuniones científicas
Título:
ORDENAMIENTO EN FILMS DELGADOS DE COPOLÍMERO BLOQUE BAJO CO2 SUPERCRÍTICO
Autor/es:
MARCELO A. VILLAR; CRISTIAN M. PIQUERAS; ANABELLA A. ABATE; DANIEL A. VEGA
Lugar:
Cancún Rivera Maya
Reunión:
Simposio; XV Simposio Latinoamericano de Polímeros; 2016
Institución organizadora:
SLAP
Resumen:
El desarrollo de patrones nanométricos basados en el auto-ensamblado es considerado en la actualidad como una de las rutas más promisorias para reemplazar tecnologías litográficas de alta resolución, tales como litografía con rayos X, haces de electrones o por interferencia. En particular, los copolímeros bloque han recibido gran atención no sólo debido a la escala de sus dominios (nanómetros) y su diversidad de propiedades (velocidad de ataque químico diferencial, permitividad diélectrica controlada, etc.), sino a la gran simplicidad que tienen para sintonizar tanto el tamaño como la forma de sus dominios, simplemente modificando la composición, masa molar o su arquitectura. En la actualidad este tipo de materiales está siendo ampliamente utilizado en una gran diversidad de aplicaciones que van desde el desarrollo de máscaras para litografía y aplicaciones fotónicas o fonónicas al desarrollo de nano-objetos, materiales porosos y membranas moleculares para filtración de virus y screening de ADN.En este trabajo se estudia el ordenamiento de monocapas y bicapas copolímeros tribloque asimétricos en base poli(estireno-b-butadieno-b-estireno) (SBS) con microestructura cilíndrica en un medio de dióxido de carbono supercrítico (scCO2).