ESTUDIO DE LOS MECANISMOS DE DISOCIACIÓN DE H2S y HSCH3 SOBRE LA SUPERFICIE DE Au(111)

P. G. LUSTEMBERG; P. N. ABUFAGER; M. L. MARTIARENA; A. E. MARTÍNEZ; H. F. BUSNENGO

San Carlos de Bariloche, Río Negro

Jornada; X Encuentro CNEA “Superficies y Materiales Nanoestructurados” San Carlos de Bariloche, 11-14 de mayo de 2010; 2010

Comisión Nacional de Energía Atómica (CNEA)

Se asume que las SAMs estables involucran radicales tiolatos (luego de la ruptura de la ligadura H-S) [1-2] pero en general no es claro cómo se generan estos tiolatos ni el destino de los átomos de H liberados. Los sistemas estudiados, por medio de la teoría de la funcional densidad, comprenden a las moléculas de H2S y HSCH3 en tres tipos mecanismos de adsorción: 1) Un proceso unimolecular. Dos procesos bimoleculares, llamados 2) canal de H, donde se  desorbe una molécula de H2 y 3) el intercambio de H, donde sólo un H se adsorbe en la superficie. En este trabajo mostramos los resultados  de las barreras de activación para los tres mecanismos y se determinará cual de los procesos es el más probable.