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Los tratamientos superficiales combinados de implantación iónica y deposición por inmersión en un plasma metálico (MePIIID) utilizando arcos catódicos han demostrado ser útiles para la fabricación de recubrimientos nanoestructurados. El uso de pulsos de alto voltaje para polarizar el sustrato permite obtener además recubrimientos densos con mejores propiedades tribológicas y mecánicas [1]. Para implementar esta técnica, se ha utilizado el equipo de descarga arco de corriente continua (18 kW, 125 A) del INFIP que posee un cátodo de titanio de 5 cm de diámetro rodeado por un ánodo anular de 8 cm de diámetro ubicados en una cámara de vacío. La cámara de tratamiento se encuentra conectada a la cámara de descarga mediante un ducto magnético recto y aislada eléctricamente de la misma. Para polarizar el sustrato se utilizó un generador pulsado de alta potencia (20 kV, 50 A) con frecuencias de 0,1-3 kHz y duración de pulso de 35 μs, controlado por llaves IGBT. En este trabajo dicho generador se ha operado a una frecuencia de 200 Hz, y variando el voltaje pico entre 0 y 12 kV. Se crecieron películas de titanio sobre sustratos de acero inoxidable 316L y silicio mediante descarga arco e implementando la polarización para aplicar la técnica MePIIID. Se estudió el efecto de la implantación sobre la estructura cristalina de las películas obtenidas mediante difracción de rayos X con incidencia rasante y microscopía electrónica de transmisión. La composición de los recubrimientos se analizó por espectroscopía de retrodispersión de Rutherford. Se observaron cambios en la estructura cristalina al aplicar la técnica MePIIID independientes del sustrato utilizado. El ensanchamiento en los picos de difracción observados en muestras con implantación podría indicar una disminución en el tamaño de cristalita.