Efecto del tiempo de exposición al plasma de Argón en la deposición superficial de acido acrílico en membranas de ultrafiltración.

MERCEDES L. MENDEZ; LAURA PALACIO MARTINEZ; ELZA F. CASTRO VIDAURRE; VERONICA RAJAL; JOSE IGNACIO CALVO; PEDRO PRÁDANOS

Salta

Congreso; VIII Congreso Iberoamericano de Ciencia y tecnología de membranas; 2012

INIQUI-CONICET-UNSa-UNSl

La tecnología de plasma es en la actualidad una herramienta ampliamente utilizada para modificar diferentes materiales con el objetivo de ampliar y/o mejorar sus aplicaciones. Dentro de esta tecnología, el plasma frío, denominado así porque la descarga eléctrica se produce a temperatura ambiente, es de gran interés debido a que se puede utilizar en todo tipo de materiales. Las modificaciones que se persiguen con esta técnica van desde cambios en la hidrofilia superficial, fuerza de adhesión, rugosidad superficial hasta la biocompatibilidad [1-2,4]. De acuerdo con los requerimientos deseados en las membranas se determinan las condiciones de operación del reactor de plasma y se seleccionan los gases y/o líquidos, orgánicos o inorgánicos, a utilizar. Así, el objetivo de este trabajo es estudiar cómo afectan diferentes tiempos de exposición a un plasma de Argón previo a una polimerización por plasma de acido acrílico (AA), realizada en la superficie de membranas de ultrafiltración de polietersulfona. La finalidad del tratamiento con Ar es de limpieza y activación de la superficie.