INTEC 05402
INSTITUTO DE DESARROLLO TECNOLOGICO PARA LA INDUSTRIA QUIMICA
Unidad Ejecutora - UE
artículos
Título:
OBTENCION DE PELICULAS DELGADAS DE SILICIO POLICRISTALINO A PARTIR DE CLOROSILANOS EN REACTORES DE CVD
Autor/es:
A.BENVENUTO, J. SCHMIDT, R.H.BUITRAGO
Revista:
ANALES AFA
Editorial:
Asociacion Fisica Argentina
Referencias:
Año: 2009
ISSN:
0327-358X
Resumen:
En este trabajo se presentan resultados obtenidos en la deposicion y caracterizacion estructural de laminas delgadas de silicio policristalino. Como metodo de deposición se uso CVD termico a partir de clorosilanos y como sustrato un vidrio comercial de alta temperatura.Se logrò la deposición de peliculas delgadas con tamaño de grano entre 0,2 y 0,4 micrones a temperaturas entre 730 y 850 ªC.Las muestras presentan un crecimiento columnar y una clara orientación cristalográfica en (220). Estas caracteristicas serian propicias para el transporte perpendicular al sustrato.
