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La ablación láser se ha utilizado con éxito en la fabricación de NPs de distintos materiales. Para la caracterización de la distribución de tams de se han empleado la espectroscopia de extinción como técnica propuesta la cual se ha contrastado con muy buen acuerdo con técnicas microscópicas tradicionales (TEM, AFM).Las NPs de alto índice de refracción (como por ejemplo las de silicio) poseen variadas aplicaciones dependiendo de su tamaño. Por ejemplo las de diámetro menor a 10 nm se caracterizan por sus propiedades fotoluminiscentes. Las de tamaño de unas pocas decenas de nanómetros se utilizan en aplicaciones para energéticas alternativas. En cambio, las que se encuentran en el rango entre 100nm y 160 nm poseen una respuesta óptica peculiar en el rango UV-visible. Dicha propiedad óptica se basa en el refuerzo de los términos dipolar y cuadrupolar magnéticos en el desarrollo de su sección eficaz de scattering, por lo que recibe el nombre de magnetismo óptico o scattering magnético.Se muestran los resultados obtenidos en cuanto a fabricación estudio y análisis de NPs de alto índice de refracción (Si) utilizando la ablación láser de femtosegundos.