IMBICE   05372
INSTITUTO MULTIDISCIPLINARIO DE BIOLOGIA CELULAR
Unidad Ejecutora - UE
congresos y reuniones científicas
Título:
TIO2 NANOLAYER GROWTH BY PULSED LASER DEPOSITION WITH MONO AND MULTIPULSE LASER EXCITATION
Autor/es:
L. PONCE; Y. PEÑALOZA MENDOZA; F. CABALLERO BRIONES; C. GUARNEROS AGUILAR; F. C. ALVIRA
Lugar:
Bucaramanga
Reunión:
Conferencia; XV Encuentro Nacional de Optica y VI Conferencia Andina y del Caribe en Optica y sus Aplicaciones; 2017
Institución organizadora:
Universidad Industrial de Santander
Resumen:
En este trabajo se muestranresultados correspondientes al crecimiento de nanocapas de TiO2sobre vidrio empleando la técnica Pulsed Laser Deposition (PLD) en alto vacíobajo excitación de un láser de nanosegundos que emite pulsos únicos ymultipulso. Para promover la cristalización de las nanocapas generadas serealizó un tratamiento térmico a presión atmosférica. Las nanocapas fueronestudiadas por difracción de rayos x, EDS, SEM, AFM, espectroscopia UV-VIS yelipsometria.Los films sin tratamiento térmico nomuestran picos apreciables en DRX, lo cual sugiere que los mismos son amorfos,esto cambia con el tratamiento térmico. Luego del tratamiento térmico lasnanocapas generadas por PLD con láser monopulso cristalizan en fase anatasa,mientras que los generados con láser multipulso cristalizan en fase rutilo. Losfilms sin tratamiento térmico no son estequiométricos (es decir no siguen larelación de 2 átomos de oxigeno por cada átomo de titanio). Por otro lado, losfilms depositados con láser multipulso y sin tratamiento térmico muestran unaestequiometria más parecida a la esperada (TiO2). Luego deltratamiento térmico, los films ganan en contenido de oxigeno: la nanocapaobtenida con láser multipulso pasa a tener una estequiometria de TiO1.9 yla de monopulso de TiO1.7. Sobre las nanocapas se observa siempre laexistencia de gotas de material, lo cual es típico de la ablación con láseresde nanosegundos que emiten a 1064 nm. El band gap de los films obtenidospor PLD monopulso varia con el tratamiento térmico, mientras que los obtenidoscon PLD multipulso permanece invariante. Los primeros varían de 3.09 eV (sintratamiento térmico) a 3.34 eV (luego del tratamiento térmico). En tanto quelos films generados por PLD multipulso muestran un band gap invariante respectodel tratamiento térmico de 3.12 eV.Las diferencias en las propiedadesde las nanocapas crecidas en los 2 diferentes regímenes se atribuyen a procesosde re-excitación del plasma que ocurren durante la ablación con lásermultipulso