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En este trabajo se aplican recubrimientos PVD de TiN sobre muestras de ADI de distintos grados y conteos nodulares, en un reactor industrial y a temperaturas de 300 y 280ºC, adecuando el resto de los parámetros de proceso a tales temperaturas. Se avanza en el estudio de los efectos de la temperatura y otros parámetros sobre las características de los recubrimientos y los posibles cambios en la microestructura de los sustratos. Se determinan fases presentes, textura cristalográfica, espesor, dureza, módulo elástico, topografía superficial y adherencia de los recubrimientos. Además, se realiza la caracterización metalográfica y se determina la cantidad de austenita retenida en los distintos sustratos, antes y después de la deposición. Los recubrimientos PVD de TiN sobre ADI muestran una fuerte orientación preferencial del plano (111) paralelo a la superficie. La disminución de la temperatura de trabajo de 300 a 280ºC, manteniendo el tiempo de deposición, inhibe el proceso de degradación de los sustratos. La topografía superficial de las muestras recubiertas es afectada por las características microestructurales y modo de preparación de los sustratos, y por la topografía inducida por el proceso PVD. La deposición a más baja temperatura genera una película con características más pobres en cuanto a espesor, dureza y módulo elástico. La adherencia de los recubrimientos es de buena calidad sobre todos los sustratos y no varía entre los grados de ADI estudiados ni con el conteo nodular dentro de cada grado. Variaciones en el espesor de película tampoco afectan a la adherencia.