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En este trabajo se aplican recubrimientos PVD de TiN y CrN sobre muestras de ADI de distintos conteos nodulares y temperaturas de austemperado. Se analiza la influencia de las características del sustrato y del material del recubrimiento en las propiedades del producto ADI recubierto y, también, el efecto de los procesos de deposición sobre la microestructura de los sustratos. Los recubrimientos se aplican mediante la técnica de plateado iónico con arco catódico, utilizando un reactor industrial y parámetros de proceso específicamente seleccionados para este material. Se determinan fases presentes, orientación preferencial, topografía superficial, espesor de película, dureza, tensiones residuales y adherencia de las muestras recubiertas. Además, se determina la cantidad de austenita retenida presente en los sustratos antes y después de las deposiciones. Los resultados obtenidos muestran que los recubrimientos de TiN y CrN aplicados sobre muestras de ADI a una temperatura de 300ºC y con tiempos de deposición de hasta 120 min presentan muy buenas características en cuanto a espesor de película, dureza, tensiones residuales y adherencia, sin producir deterioro de la microestructura ausferrítica. Las películas de TiN y CrN crecieron con una orientación preferencial de los planos (111) y (200) paralelos a la superficie, respectivamente. La dureza Knoop de las muestras recubiertas aumenta con el conteo nodular y la disminución de la temperatura de austemperado de los sustratos, mientras que la rugosidad media disminuye con el aumento del conteo nodular. La adherencia de los recubrimientos de TiN mejora levemente para los sustratos de menor conteo nodular y las tensiones residuales no están influenciadas por las distintas características de los sustratos. Las muestras recubiertas con TiN presentan mayores durezas y tensiones residuales.