Recubrimientos PVD sobre ADI: efecto de los parámetros del proceso sobre las características de los recubrimientos y la microestructura de los sustratos

D.A. COLOMBO; M.D. ECHEVERRÍA; O.J. MONCADA; J.M. MASSONE

Rosario Santa Fe

Congreso; 11º Congreso Binacional de Metalurgia y Materiales. SAM / CONAMET 2011; 2011

En este trabajo se aplican recubrimientos PVD de TiN y CrN sobre sustratos de ADI austemperados a 360ºC, utilizando un reactor industrial, mediante la técnica de plateado iónico con arco catódico. Los resultados se comparan con los obtenidos en trabajos previos para otras condiciones de deposición. Se analiza el efecto de los parámetros del proceso PVD sobre las características de los recubrimientos y sobre la microestructura de los sustratos. Los resultados muestran que diferentes materiales de recubrimiento y condiciones de deposición, no provocan cambios significativos en la topografía ni en la adherencia de los recubrimientos. Bajos valores de tensión de polarización conducen a una disminución de la tasa de crecimiento y de la dureza de las películas, mientras que muy bajos valores de presión de la cámara combinados con una alta temperatura de sustrato conducen a un aumento de la tasa de crecimiento. Temperaturas de sustrato del orden de 300ºC, con tiempos de deposición de hasta 240 min, no provocan cambios en su microestructura. Temperaturas mayores a 350ºC provocan degradación microestructural, aún para tiempos de deposición de 45 min.